一、產(chǎn)品名稱：鋯靶、鋯靶材、鋯靶塊
凱澤金屬生產(chǎn)的鋯純度達(dá)到99.9,密度為6.00，最高使用溫度為2200度，主要運(yùn)用在熔煉貴金屬，抗熱穩(wěn)定性能良好。
鋯材牌號(hào)：(ZR60702 ZR60705 UNS標(biāo)準(zhǔn)) (Zr-1 Zr-3 Zr-5 國(guó)標(biāo)一般工業(yè)標(biāo)準(zhǔn))
鋯材標(biāo)準(zhǔn)：ASTM B550 ASTM B550-07 GB/8769-88
類型：Zr
鋯有點(diǎn)：抗熱穩(wěn)定性能良好
鋯靶用途： 熔煉貴金屬
鋯密度：6.51g/cm3
鋯熔點(diǎn)：≥1800℃
鋯純度：≥99.5%.≥99.9%.≥99.95%
鋯雜質(zhì)含量：?jiǎn)我浑s質(zhì)元素≤0.01%
鋯規(guī)格：直徑100*40 98*40 97*30mm
交貨表面鍛造表面，軋制表面，車光表面，磨光表面。
二、產(chǎn)品名稱：鈦靶塊、鈦靶材
1、牌號(hào)
國(guó)內(nèi)牌號(hào)：TA1、TA2
美標(biāo)牌號(hào)：GR1、GR2
2、靶材的主要性能要求:
1）純度
鈦靶塊的純度是鈦靶塊廠家的主要性能指標(biāo)之一，因?yàn)殁伆锌畹募兌葘?duì)薄膜的性能影響很大。不過在實(shí)際應(yīng)用中，對(duì)靶材的純度要求也不盡相同。
2）雜質(zhì)含量
靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對(duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如，半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對(duì)堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。
3、規(guī)格
Φ100*40，Φ98*40，Φ95*45，Φ90*40，Φ85*35，Φ65*40較常見，其他規(guī)格可按客戶要求制作。
4、執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)
國(guó)標(biāo)：GB/T 16598，GB/T2965 。
三、鉻靶材
材質(zhì)：Cr
尺寸：100*50 100*40 95*45 95*40 80*45 672*127*12 70*7*1135等。
鉻靶是用先進(jìn)的熱等靜壓（HIP）工藝生產(chǎn)而成，靶材致密度高（密度＞7.17g/cm3），成分均勻，晶粒細(xì)小，使用壽命長(zhǎng)。
凱澤金屬生產(chǎn)的鉻靶度99.95%，各種復(fù)雜形狀的鉻靶都可以加工。根據(jù)圖紙加工 供應(yīng)鉻靶，鍍鉻，真空鍍膜，鉻靶，濺射鍍膜，真空鍍鉻。
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