濺射鉬靶材因其自身優(yōu)點(diǎn)，已經(jīng)在電子行業(yè)、太陽(yáng)能電池、玻璃鍍膜等方面得到了廣泛的應(yīng)用。隨著現(xiàn)代科技微型化、集成化、數(shù)字化、智能化的快速發(fā)展，鉬靶材的用量將持續(xù)增長(zhǎng)，對(duì)其質(zhì)量要求也必將越來(lái)越高。所以有必要對(duì)鉬靶材的利用率進(jìn)行提高，凱澤金屬將提高濺射鉬靶材利用率的措施，結(jié)合相關(guān)資料，分享如下：
如何提高濺射鉬靶材利用率？
1、背面加電磁線圈
想提高濺射鉬靶材的利用率，可以在平面的磁控濺射鉬靶材的背面加上一圈電磁線圈，通過(guò)電磁線圈的電流來(lái)改變鉬靶材表面的磁場(chǎng)大小，以提高鉬靶材的利用率。除提高利用率外，還能提高濺射效率。
2、采用管狀旋轉(zhuǎn)靶材
相比平面靶材，采用管狀旋轉(zhuǎn)靶材結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)顯示出它的實(shí)質(zhì)性優(yōu)勢(shì)，一般平面靶材的利用率低，僅為僅為30%~50%，所以現(xiàn)在很多廠家都在應(yīng)用旋轉(zhuǎn)空心圓管磁控濺射靶，其優(yōu)點(diǎn)是靶材可繞固定的條狀磁鐵組件旋轉(zhuǎn)，靶面360°可被均勻刻蝕，其利用率可從平面靶材的30% ~ 50%增加到80%以上。此外，旋轉(zhuǎn)靶的壽命要比平面靶材高5倍。由于旋轉(zhuǎn)靶材在濺射過(guò)程中不停的旋轉(zhuǎn)，在它的表面不會(huì)產(chǎn)生重沉積現(xiàn)象。
3、更換新型濺射設(shè)備
提高靶材利用率的關(guān)鍵在于實(shí)現(xiàn)濺射設(shè)備的更新?lián)Q代。鉬濺射靶材在濺射過(guò)程中靶材原子被氫離子撞擊出來(lái)后，約由六分之一的濺射原子會(huì)淀積到真空室內(nèi)壁或支架上，增加清潔真空設(shè)備的費(fèi)用及停機(jī)時(shí)間。所以設(shè)備的更新也有助于提高濺射鉬靶材的利用率。
上述就是對(duì)如何提高濺射鉬靶材利用率的回答，要提高鉬濺射靶材的利用率和濺射效率，一種是背面加電磁線圈，另一種是改平面靶材為管狀旋轉(zhuǎn)靶材，還有就是通過(guò)更新?lián)Q代濺射設(shè)備和增加靶材規(guī)格。隨著電子行業(yè)及太陽(yáng)能電池的發(fā)展，鉬靶材作為高附加值電子材料的用量在逐年增加，所以提高提高濺射鉬靶材利用率是很有必要的一項(xiàng)措施。凱澤金屬可提供高純度的鉬靶材，如果您有需要，歡迎在我們網(wǎng)站留言或來(lái)電聯(lián)系凱澤金屬。
相關(guān)鏈接
