靶材磁控濺射的沉積率也就是沉積的速率，是指沉積物對可容空間充填的速度。濺射沉積率不僅是成膜速度的一個重要參數，也是對靶材成膜的特性，如牢固度。薄膜應力、表面光潔度等有...

鍍膜靶材上的薄膜是一種特殊的物質形態。在厚度這個特定方向上尺寸很小，是一個微觀可測的量，而且薄膜厚度由于表面和界面的存在，使物質連續性發生終端，使得薄膜材料與靶材材料產...

鈦靶鎳靶等靶材在使用過程中，其表面逐漸會產生一種黑色顆粒狀物質，我們稱之為黑化物，或是說靶材中毒。靶材黑化中毒容易產生諸多問題，影響產品的質量。因此分析靶材黑化中毒的原...

靶材是制備薄膜的主要材料之一，被廣泛應用于電子及信息產業，如液晶顯示屏、集成電路、平板顯示等等，對材料的純度和穩定性要求較高。更換不同的靶材，即可得到不同的膜系。凱澤金...

鈦靶、鉻靶、鋯靶、鎳靶等合金濺射靶材的要求比其他材料要高，除了如純度、尺寸、各項雜質含量、缺陷控制等一般要求外，還有表面粗糙度、成份與組織均勻性、異物（氧化物）含量與尺...

硬質涂層是通過氣相沉積法，在硬質合金刀片表面上涂覆耐磨的碳化鈦、氧化鋁等薄層，從而形成表面涂層硬質合金，這種涂層材料耐磨性好，耐腐蝕，且耐高溫氧化，在切削刀具和耐磨零部件等...

對于需要制備不同尺寸的靶材所采用的制備方法也不一樣，比如制備小尺寸的靶材，常用的是粉末熱等靜壓法以及粉末壓制燒結法。那么對于大尺寸的靶材制備各種表面強化和表面防護涂...

磁控濺射是制備薄膜材料的關鍵技術，而鈦靶材是這項技術中需要使用的鍍膜材料。現在很多行業，如集成電路，裝飾鍍膜行業、平面顯示等都需要用到磁控濺射技術，這些行業對于產品的質...

隨著產業技術的發展，工業生產需要高質量的靶材產品，因為靶材的質量直接影響著磁控濺射薄膜的性能，目前，企業一般在購買靶材上更偏向用成分結構均勻的高密度靶材進行濺射鍍膜，以減...

濺射鉬靶材因其自身優點，已經在電子行業、太陽能電池、玻璃鍍膜等方面得到了廣泛的應用。隨著現代科技微型化、集成化、數字化、智能化的快速發展，鉬靶材的用量將持續增長，對其...

鈦靶鎳靶靶材作為磁控濺射系統中的陰極，為制備沉積薄膜提供物質來源，其組織結構和性能的差異對薄膜的組織結構和性能也應該具有密切聯系。靶材的制作方法之一粉末冶金法中，需要...

大家都知道鈦鎳鋯鉻濺射靶材的規格很多，而且應用行業也很廣泛，不同行業常用的靶材種類也有所不同，今天我們就隨凱澤金屬一道來了解濺射靶材的行業分類的相關知識吧！一、濺射靶材...

大家都知道靶材分為很多種，比如合金，氧化物，銅、鋁、不銹鋼、鎳、鈦等金屬，而根據金屬的不同，需要用到各種不同的靶材制備方法，凱澤金屬結合相關資料，整理如下：濺射靶材的不同工藝方...

為了降低旋轉磁控濺射靶材的成本，提高靶材利用率，靶材廠家和學者共同對靶材結構進行了研究。研究結果表明，通過調整中心磁體和外磁體的位置，能有效提高鈦靶材利用率和靶材的刻蝕...

AZO靶材是其中一種制造高科技節能玻璃鍍膜材料，用于用于物理鍍膜中的濺鍍，除了AZO靶材，還有金屬靶材和陶瓷靶材。陶瓷旋轉靶材采用燒結及綁定工藝，可生產較好大長度4000mm，單節較...

陶瓷靶材的種類及其應用隨著電子產業的發展，高技術材料逐漸向薄膜轉移，鍍膜期間隨之發展迅速，靶材是一種具有高附加值的特種電子材料，是濺射薄膜材料的源較。陶瓷靶材作為非金屬...

1、化工行業：整體法蘭(IF)、螺紋法蘭(Th)、板式平焊法蘭(PL)、帶頸對焊法蘭(WN)、帶頸平焊法蘭(SO)、承插焊法蘭(SW)、對焊環松套法蘭(PJ/SE)、平焊環松套法蘭(PJ/RJ)、襯里...

鈦合金TC4材料的組成為Ti-6Al-4V，屬于(α+β)型鈦合金，具有良好的綜合力學機械性能。比強度大。TC4的強度sb=1.012GPa，密度g=4.4*103，比強度sb/g=23.5，而合金鋼的比強度sb/g小于1...

鋯和鈦具有許多類似的物理、化學性能。例如他們的熔點都很高，純鈦： 1668 ℃，純鋯： 1852 ℃。鋯和鈦的化學活性都很高，而且鋯比鈦更高，但表面都能形成致密的鈍化膜，具有很高的耐蝕性...

靶 材 主 要應 用 于 電 子及 信息 產 業 ，如 集 成 電路 、信息 存 儲 、液晶顯示屏、太陽能電池、電子控制器件等領域。隨著集成電路、太陽能和平面顯示器產業的發展，靶材的...

鍍膜方法真空蒸鍍濺射鍍離子鍍化學反應鍍可鍍物質金屬金屬某些化合物金屬、合金、化合物、陶瓷、高分子物質金屬、合金、陶瓷、化合物膜材蒸發方式真空蒸鍍真空濺射蒸鍍、濺...

由于磁控濺射鐵磁性靶材的難點是靶材表面的磁場達不到正常磁控濺射時要求的磁場強度，因此解決的思路是增加鐵磁性靶材表面剩磁的強度，以達到正常濺射工作對靶材表面磁場大小的...

真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發和離子濺射。真空蒸發鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發的材料加熱到定溫度，使材料中分子或原...

近年來，隨著新材料的開發，尤其是薄膜材料的發展和應用，帶動控濺射沉積技術的飛速發展，在科學研究領域和工業生產中有著不可替代的重要作用。本文主要介紹了控濺射沉積鍍膜技術的...

高純鈦作為電子信息領域重要的功能薄膜材料，近年來隨著我國集成電路、平面顯示、太陽能等產業的快速發展需求量快速上升。磁控濺射技術(PVD)技術是制備薄膜材料的關鍵技術之...

鈦靶材的制造方法，包括選取鈦原料，將鈦原料熔融，并將熔湯澆鑄，澆鑄后的熔湯冷卻形成鑄錠坯料；之后立即進行熱處理，然后將保溫熱處理后的鑄錠坯料形成鈦坯；進行第二熱處理，然后將保溫...

寶雞市凱澤金屬材料有限公司，多年來專注于濺射靶材、真空鍍膜鈦、鎳、鋯、鉻靶材的生產及深加工，靶材廣泛應用于主營平板顯示器用靶材，鍍膜玻璃工業用靶材，電阻靶材，汽車車燈鍍膜...

法蘭連接是一種在壓力容器和壓力管道工程設計中應用非常廣泛的可拆式連接形式。保證連接的強度安全和密封安全是對法蘭接頭設計提出的最基本要求。因此，法蘭計算需要解決三個...

TC4鈦合金是20世紀40年代初期研制成功的一種中等強度的口β型鈦合金，具有優良的綜合性能，譽稱萬能合金，是最早最廣泛用于飛機結構的通用鈦合金，包括板材、棒材和鍛鑄件等，主要用...

銘及其化合物廣泛應用于染料 、 顏料 、 皮革 、 電鍍 、 冶金等行業 ， 含鋸廢水如處理不當或未有效控制會引起水與土壤污染 。 含銘廢水污染物毒性大 ， 通過食物鏈危害人們的...

鋁涂層具有優良的耐腐蝕性和良好的經濟效益，在耐蝕性涂層方面一直是圍內外選用較多的涂層。另外，鋁涂層因具有良好的附著性、反射性及漂亮的銀白色外觀等，在半導體器件、大規模...

引言現代建筑大多已開始采用大面積玻璃采光，這一方面帶給我們更明亮的房間以及更寬闊的視野 ，另一方面由于透過玻璃傳遞 的熱能遠高于周圍墻體 ，導致整個建筑物的使用能耗明顯...

前 言磁控濺射鍍膜屬于物理氣相沉積，離子在電場加速下高速轟擊陰極靶材，靶材原子被濺射出來后沉積到被鍍膜體表面而形成薄膜，是用來制備薄膜材料的一種主要方法 [1] 。它的基本...

硬質涂層用濺射靶材對靶材的純度 、內部組織結構、力學強度、外觀尺寸要求較高，同時靶材的成分和制備工藝對膜層 的各項性能有著決定性影響 。 。鈦鋁合 金(Ti—A I)作為一種...

磁控濺射原理：在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成...

凱澤金屬，寶雞鈦靶、鉻靶、鎳靶、鋯靶等靶材生產廠家，多年來專注鈦多弧靶、平面靶、板靶、管靶、旋轉靶等靶材的深加工，有關靶材鍍膜的工藝，結合蒸發鍍膜、濺射鍍膜的兩種不同，結...